2017년 발족한 산화갈륨기술연구회의 회원은 2020년 2월 기준 110여명이며, 주요활동은 산화갈륨전문학술워크숍 개최, 산화갈륨(Ga2O3) 관련 국책과제 발굴, 그리고 산화갈륨 기술의 상용화 및 국산화이다. 산화갈륨은 기존 질화갈륨(GaN)과 탄화규소(SiC)와는 달리 액상에서 단결정 성장이 가능하고 밴드갭 에너지가 4.8eV 이상인 울트라와이드밴드갭 (UWBG; Ultra-wide band gap) 반도체 일종이다.
2018년부터 매년 개최되는 산화갈륨전문학술워크숍(K-GOW)에서는 ▼원료 및 단결정 성장 기술, ▼에피성장 및 도핑기술, ▼응용소자 및 공정기술, ▼시뮬레이션 및 특성분석 등 4대 분야에 대한 최신 연구결과를 발표하고 있다.
2022년부터는 전력반도체 기술 뿐만 아니라 광촉매, 광센서 등으로 연구분야를 대폭 확대하여 산화갈륨 전문인력양성 및 연구회의 성장을 가속화하고 있다.
| 직위 | 성명 | 소속기관 |
|---|---|---|
| 위원장 | 문재경 | 한국전자통신연구원(ETRI) |
